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CPKN Trocken aufgestellte Pumpe

Trocken aufgestellte Pumpe CPKN

Horizontale, quergeteilte Spiralgehäusepumpe in Prozessbauweise, mit Radialrad, einströmig, einstufig, nach ISO 2858 / ISO 5199, auch als Variante mit nasser Welle, konischem Dichtungsraum und / oder halboffenem Laufrad. ATEX-Ausführung erhältlich.
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Hauptanwendungen

  • Pumpe zum Fördern von aggressiven Flüssigkeiten in der chemischen und petrochemischen Industrie
  • Papierindustrie / Zellstoffindustrie
  • Meerwasserentsalzung / Umkehrosmose
  • Lebensmittelindustrie / Getränkeindustrie

Technische Daten

Maximale Fördermenge
4800 m³/h
Maximale Förderhöhe
275 m
Maximal zulässiger Betriebsdruck
25 bar
Maximal zulässige Medientemperatur
400 °C

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Vorteile

  • Energiesparender und umweltschonender Umgang mit Ressourcen durch optimierte hydraulische Eigenschaften mit bestem Wirkungsgrad und NPSH
  • Sinkende Investitionskosten, da gegebene Betriebspunkte durch kleinere Pumpengrößen erreicht werden können.
  • Niedrige Betriebskosten durch geringen Energieverbrauch, optimiertes Ersatzteilkonzept sowie servicefreundliches und Verschleiß minimierendes Design

Technische Daten

Funktion
Fördern
Verbindungsart
Flansch
Antriebskonzept
mit E-Antrieb
Maximale Fördermenge
4800 m³/h
Minimale Fördermenge
1 m³/h
Maximale Förderhöhe
275 m
Minimale Förderhöhe
2 m
Netzfrequenz
50 Hz,
60 Hz
Netzspannung
400 V,
460 V
Gehäusewerkstoff
EN-GJS-400-18-LT,
GP240GH+N/A216 GRADE WCB,
GX5CRNIMO19-11-2,
GX3CRNIMOCUN24-6-2-3/GX2CRNIMOCUN25-6-3-3/A9951B
Nenndruck
PN 25
Maximal zulässiger Betriebsdruck
25 bar
Ansaugverhalten
normalsaugend
Maximal zulässige Medientemperatur
400 °C
Minimal zulässige Medientemperatur
-40 °C