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CPKNO Trocken aufgestellte Pumpe

Trocken aufgestellte Pumpe CPKNO

Horizontale Spiralgehäusepumpe in Prozessbauweise, mit halboffenem Laufrad, einstufig, nach ISO 2858 / ISO 5199. ATEX-Ausführung erhältlich.
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Hauptanwendungen

  • Chemische Industrie (aggressive / sonstige Flüssigkeiten)
  • Petrochemische Industrie (aggressive / sonstige Flüssigkeiten)
  • Alkoholindustrie
  • Konventionelle Kraftwerke

Technische Daten

Maximale Fördermenge
900 m³/h
Maximale Förderhöhe
150 m
Maximal zulässiger Betriebsdruck
25 bar
Maximal zulässige Medientemperatur
400 °C

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Vorteile

  • Energiesparender und umweltschonender Umgang mit Ressourcen durch optimierte hydraulische Eigenschaften mit bestem Wirkungsgrad und NPSH
  • Sinkende Investitionskosten, da gegebene Betriebspunkte durch kleinere Pumpengrößen erreicht werden können.
  • Niedrige Betriebskosten durch geringen Energieverbrauch, optimiertes Ersatzteilkonzept sowie servicefreundliches und Verschleiß minimierendes Design

Technische Daten

Funktion
Fördern
Verbindungsart
Flansch
Antriebskonzept
mit E-Antrieb
Maximale Fördermenge
900 m³/h
Minimale Fördermenge
0.1 m³/h
Maximale Förderhöhe
150 m
Minimale Förderhöhe
0.1 m
Netzfrequenz
50 Hz,
60 Hz
Netzspannung
110 V,
115 V,
120 V,
125 V,
200 V,
208 V,
220 V,
230 V,
240 V,
260 V,
276 V,
278 V,
380 V,
400 V,
415 V,
440 V,
460 V,
480 V,
500 V,
525 V,
575 V,
600 V,
660 V,
690 V,
760 V,
830 V,
1000 V,
3000 V,
4160 V,
5000 V,
5500 V,
6000 V,
6600 V,
6900 V,
10000 V,
11000 V
Gehäusewerkstoff
GP240GH+N,
GX3CRNIMOCUN24-6-2-3,
GX3CRNIMOCUN24-6-5,
GX5CRNIMO19-11-2
Nenndruck
CL 150,
PN 25
Maximal zulässiger Betriebsdruck
25 bar
Ansaugverhalten
normalsaugend
Maximal zulässige Medientemperatur
400 °C
Minimal zulässige Medientemperatur
-40 °C

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