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RPH-LF Trocken aufgestellte Pumpe

Trocken aufgestellte PumpeRPH-LF

Horizontale, einflutige, einstufige, radialgeteilte, einseitig gelagerte, achsmittig unterstützte Prozesspumpe mit Ringraumgehäuse nach API 610 (ISO 13709), Typ OH2. Spezielle Ausführung für kleine Fördermengen. ATEX-Ausführung erhältlich.
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Technische Daten

  • Maximale Fördermenge49 m³/h
  • Maximale Förderhöhe488 m
  • Maximal zulässiger Betriebsdruck110 bar
  • Maximal zulässige Medientemperatur200 °C

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Technische Daten

  • FunktionFördern
  • VerbindungsartFlansch
  • Antriebskonzeptmit E-Antrieb,
    Turbine
  • Maximale Fördermenge49 m³/h
  • Minimale Fördermenge0.1 m³/h
  • Maximale Förderhöhe488 m
  • Minimale Förderhöhe0.1 m
  • Netzfrequenz50 Hz,
    60 Hz
  • Netzspannung110 V,
    115 V,
    120 V,
    125 V,
    200 V,
    208 V,
    220 V,
    230 V,
    240 V,
    260 V,
    276 V,
    278 V,
    380 V,
    400 V,
    415 V,
    440 V,
    460 V,
    480 V,
    500 V,
    525 V,
    575 V,
    600 V,
    660 V,
    690 V,
    760 V,
    830 V,
    1000 V,
    3000 V,
    4160 V,
    5000 V,
    5500 V,
    6000 V,
    6600 V,
    6900 V,
    11000 V
  • GehäusewerkstoffA516 GRADE 70,
    A240 TYPE 410,
    UNS S31603
  • NenndruckCL 600,
    PN 100
  • Maximal zulässiger Betriebsdruck110 bar
  • Ansaugverhaltennormalsaugend
  • Maximal zulässige Medientemperatur200 °C
  • Minimal zulässige Medientemperatur-70 °C

Dokumente

Titel
Format
Größe
Letzte Änderung
Produkt-2-Seiter RPH-LF (1324.021_DE)PDF0.8518.10.2021