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RPH-LF Trocken aufgestellte Pumpe

Trocken aufgestellte Pumpe RPH-LF

Horizontale, einflutige, einstufige, radialgeteilte, einseitig gelagerte, achsmittig unterstützte Prozesspumpe mit Ringraumgehäuse nach API 610 (ISO 13709), Typ OH2. Spezielle Ausführung für kleine Fördermengen. ATEX-Ausführung erhältlich.
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Technische Daten

Maximale Fördermenge
49 m³/h
Maximale Förderhöhe
488 m
Maximal zulässiger Betriebsdruck
110 bar
Maximal zulässige Medientemperatur
200 °C

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Technische Daten

Funktion
Fördern
Verbindungsart
Flansch
Antriebskonzept
mit E-Antrieb,
Turbine
Maximale Fördermenge
49 m³/h
Minimale Fördermenge
0.1 m³/h
Maximale Förderhöhe
488 m
Minimale Förderhöhe
0.1 m
Netzfrequenz
50 Hz,
60 Hz
Netzspannung
110 V,
115 V,
120 V,
125 V,
200 V,
208 V,
220 V,
230 V,
240 V,
260 V,
276 V,
278 V,
380 V,
400 V,
415 V,
440 V,
460 V,
480 V,
500 V,
525 V,
575 V,
600 V,
660 V,
690 V,
760 V,
830 V,
1000 V,
3000 V,
4160 V,
5000 V,
5500 V,
6000 V,
6600 V,
6900 V,
11000 V
Gehäusewerkstoff
A516 GRADE 70,
A240 TYPE 410,
UNS S31603
Nenndruck
CL 600,
PN 100
Maximal zulässiger Betriebsdruck
110 bar
Ansaugverhalten
normalsaugend
Maximal zulässige Medientemperatur
200 °C
Minimal zulässige Medientemperatur
-70 °C