RPH-LF Trocken aufgestellte Pumpe
Trocken aufgestellte Pumpe

RPH-LF

Horizontale, einflutige, einstufige, radialgeteilte, einseitig gelagerte, achsmittig unterstützte Prozesspumpe mit Ringraumgehäuse nach API 610 (ISO 13709), Typ OH2. Spezielle Ausführung für kleine Fördermengen. ATEX-Ausführung erhältlich.
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Technische Daten

  • Maximale Fördermenge49 m³/h
  • Maximale Förderhöhe488 m
  • Maximal zulässiger Betriebsdruck110 bar
  • Maximal zulässige Medientemperatur200 °C

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icon download-pdfProdukt-2-Seiter RPH-LFpdf0.2130.7.2019

Technische Daten

  • FunktionFördern
  • VerbindungsartFlansch
  • Antriebskonzeptmit E-Antrieb, Turbine
  • Maximale Fördermenge49 m³/h
  • Minimale Fördermenge0.1 m³/h
  • Maximale Förderhöhe488 m
  • Minimale Förderhöhe0.1 m
  • Netzfrequenz50 Hz, 60 Hz
  • Netzspannung110 V, 115 V, 120 V, 125 V, 200 V, 208 V, 220 V, 230 V, 240 V, 260 V, 276 V, 278 V, 380 V, 400 V, 415 V, 440 V, 460 V, 480 V, 500 V, 525 V, 575 V, 600 V, 660 V, 690 V, 760 V, 830 V, 1000 V, 3000 V, 4160 V, 5000 V, 5500 V, 6000 V, 6600 V, 6900 V, 11000 V
  • Gehäusewerkstoff0442, 2637, B476
  • NenndruckCL 600, PN 100
  • Maximal zulässiger Betriebsdruck110 bar
  • Ansaugverhaltennormalsaugend
  • Maximal zulässige Medientemperatur200 °C
  • Minimal zulässige Medientemperatur-70 °C