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CPKNO Trocken aufgestellte Pumpe

Trocken aufgestellte Pumpe CPKNO

Horizontale Spiralgehäusepumpe in Prozessbauweise, mit halboffenem Laufrad, einstufig, nach ISO 2858 / ISO 5199. ATEX-Ausführung erhältlich.
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Hauptanwendungen

  • Chemische Industrie (aggressive / sonstige Flüssigkeiten)
  • Petrochemische Industrie (aggressive / sonstige Flüssigkeiten)
  • Alkoholindustrie
  • Konventionelle Kraftwerke

Technische Daten

Maximale Fördermenge
900 m3/h
Maximale Förderhöhe
150 m
Maximal zulässiger Betriebsdruck
25 bar
Maximal zulässige Medientemperatur
400 °C

Vorteile

  • Bauart
    • Horizontale einstufige Spiralgehäusepumpe mit halboffenem Laufrad. Zum Fördern von aggressiven organischen und anorganischen Flüssigkeiten, zu Polymerisation neigenden Fördermedien sowie leicht gasbeladenen Medien.
  • Normgerecht